리소그래피 공정 내 마스크 위치 설정

리소그래피 공정은 최대한의 정밀도를 달성하기 위해 기계 이동 시 우수한 정밀도 (분해능)와 장기적인 안정성을 필요로 합니다. 그리고 이를 위해 Micro-Epsilon사의 정전용량변위센서는 나노미터 단위의 정밀한 마스크 포지셔닝을 가능하게 하는 우수한 분해능을 제공합니다. 또한 해당 센서는 진공 환경에서도 사용할 수 있도록 설계되어 초고진공 환경에서도 센서와 케이블을 사용할 수 있습니다.