리소그래피 공정 중 백색광 간섭계를 이용한 마스크 위치 설정

리소그래피 공정에서는 최대한의 정밀도를 확보하기 위해 기계 이동을 우수한 분해능으로 측정하고, 장기간 안정적으로 유지하는 것이 중요합니다. Micro-Epsilon사의 백색광 간섭계 IMS5400은 특수 평가 알고리즘과 액티브 온도 보상 기능을 이용해 나노미터 단위의 정밀한 마스크 포지셔닝을 가능하게 합니다. 또한, 진공에 적합한 센서, 케이블, 케이블 부싱으로 인해 진공 환경에서도 안정적으로 사용할 수 있습니다.